Grafen er en kemisk slægtning til diamanter, kul eller grafit af blyantledninger. Det er et af de hårdeste og mest modstandsdygtige materialer i verden. Med kun et atomlag (mindre end en milliontedel millimeter tykt) er det også et af de tyndeste materialer i universet.

Hvilket gør grafen til et materiale med enormt økonomisk potentiale. Dette skyldes, at grafenbaserede produkter kan bruges i solceller, skærme og computerapplikationer. Grafentransistorer er for eksempel meget hurtigere end siliciumtransistorer.

Det, der mangler i øjeblikket, er imidlertid muligheden for at producere grafen i stor skala til lave omkostninger. Men dette er også blevet arbejdet med succes i flere år. Der er mange fremstillingsteknikker til grafen. En lovende produktionsvariant er CVD-processen (Chemical Vapor Deposition). I CVD-processen genereres en kemisk reaktion på en overflade ved hjælp af en gasblanding og forhøjet temperatur for at syntetisere grafen og derefter overføre den til en række substrater ved ætsning og stempling.

Forskere har nu fundet den optimale katalysator til produktion af storvoksende grafenoverflader. Dette er nikkelfilm som substrat, som derefter senere ætses væk. Hvad der imidlertid var overraskende for mange var opdagelsen af CVD-vækst af grafen på kobberfolie, hvilket viser fremragende homogenitet og præcis kontrol af lagdeling. I denne proces er væksten af grafen kun begrænset af overfladens størrelse.

Forskningsartiklen viser, at CVD danner store grafenlag af høj kvalitet på kobber, som kan overføres til ethvert substrat og derefter ætses i enhver ønsket form. Detaljer kan findes i URL'en til vores kilde.