CVD Graphene

আইটিও'র বিকল্প খুঁজছে

যা গ্রাফিনকে বিশাল অর্থনৈতিক সম্ভাবনার একটি উপাদান করে তোলে। এটি কারণ গ্রাফিন-ভিত্তিক পণ্যগুলি সৌর কোষ, ডিসপ্লে এবং কম্পিউটার অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে ব্যবহার করা যেতে পারে। উদাহরণস্বরূপ, গ্রাফিন ট্রানজিস্টরগুলি সিলিকন ট্রানজিস্টরের চেয়ে অনেক দ্রুত।

যাইহোক, বর্তমানে যা অনুপস্থিত তা হ'ল কম খরচে বড় আকারে গ্রাফিন উত্পাদন করার সম্ভাবনা। তবে এটিও বেশ কয়েক বছর ধরে সফলভাবে কাজ করা হয়েছে। গ্রাফিনের জন্য অসংখ্য উত্পাদন কৌশল রয়েছে। একটি আশাব্যঞ্জক উত্পাদন রূপ হ'ল সিভিডি (রাসায়নিক বাষ্প জমা) প্রক্রিয়া। সিভিডি প্রক্রিয়াতে, গ্রাফিন সংশ্লেষ করার জন্য গ্যাস মিশ্রণ এবং উন্নত তাপমাত্রার মাধ্যমে একটি পৃষ্ঠে একটি রাসায়নিক বিক্রিয়া উত্পন্ন হয় এবং তারপরে এটি এচিং এবং স্ট্যাম্পিংয়ের মাধ্যমে বিভিন্ন সাবস্ট্রেটে স্থানান্তর িত হয়।

গবেষকরা এখন বড় ক্রমবর্ধমান গ্রাফিন পৃষ্ঠের উত্পাদনের জন্য সর্বোত্তম অনুঘটক খুঁজে পেয়েছেন। এটি একটি স্তর হিসাবে নিকেল ফিল্ম, যা পরে আঁকা হয়।
যাইহোক, অনেকের কাছে বিস্ময়কর ছিল তা হ'ল তামার ফয়েলের উপর গ্রাফিনের সিভিডি বৃদ্ধির আবিষ্কার, যা চমৎকার একাত্মতা এবং স্তরগুলির সুনির্দিষ্ট নিয়ন্ত্রণ দেখায়। এই প্রক্রিয়াতে, গ্রাফিনের বৃদ্ধি শুধুমাত্র পৃষ্ঠের আকার দ্বারা সীমাবদ্ধ।

গবেষণা নিবন্ধটি দেখায় যে সিভিডি তামার উপর বড় আকারের এবং উচ্চ মানের গ্রাফিন স্তর গঠন করে, যা যে কোনও স্তরে স্থানান্তরিত হতে পারে এবং তারপরে যে কোনও পছন্দসই আকারে আঁকা যেতে পারে। বিস্তারিত আমাদের উৎসের URL এ পাওয়া যাবে।