터치 스크린, 플렉서블 디스플레이, 인쇄 가능한 전자 제품, 광전지 또는 고체 조명과 같은 새로운 전자 장치는 유연하고 투명한 전기 전도체의 시장 성장을 급격히 증가시켰습니다. 독자들은 이미 ITO (인듐 주석 산화물)가 해결책이 된 지 오래라는 것을 알고 있습니다. 또한 ITO 대체물로서 그래핀에 대한 수요가 최근 몇 년 동안 급격히 증가했습니다. 그래핀의 합성 및 특성화의 최근 발전은 투명 도체로서 많은 전자 응용 분야에서 흥미롭다는 것을 보여줍니다.

그래핀이 이 분야에서 유용한 것으로 입증되었기 때문에 고품질과 동시에 저렴한 생산 방법의 확장 가능한 가능성이 점점 더 많이 모색되고 있습니다. 다음 표는 현재까지 그래핀의 가장 중요한 합성 방법을 나열합니다.| 합성법| 원리 | |----|----| | 기계적 각질 제거 | 접착 필름을 사용하여 흑연 결정의 최상층을 떼어내고 적절한 캐리어로 옮깁니다| | 화학적 각질 제거| 흑연 결정의 개별 층 사이에 적절한 시약을 삽입함으로써, 그래 핀 플레이크는 초음파 처리의 도움으로 용액에서 얻어진다| | 산화 그래핀의 환원 | 물에서 산화 흑연을 산화 그래 핀으로 각질 제거한 후 화학적 환원으로 산소화 된 그룹을 제거합니다. | 탄화규소의 에피택셜 성장 | 약 섭씨 1000도에서 탄화규소 결정의 열분해 | | 혼합 기상 분리(CVD)| 기체 탄소원(예: 메탄)을 금속 지지체(Cu 또는 Ni)의 그래핀 단층으로 촉매 분해|

그건 그렇고, CVD (화학 기상 증착)는 거의 완벽한 그래 핀을 생산하기 때문에 그래 핀 합성의 가장 흥미로운 방법 중 하나입니다 (아래 표 참조).| 그래핀 소재| 전기. 인수분해 | 투명성 | |----|----|----| | CVD-G|280 Ω/평방미터| 80%| | CVD-G|350 Ω/sq|90%| | CVD-G|700 Ω/sq|80%|이 합성 방법을 사용하면 전기 저항이 낮은 결과 투명도가 상당히 높았습니다 (80 %).